PVD镀膜与传统的化学电镀比较

相同点

两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。

不同点

PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，徐州PVD电镀，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定；PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。

PVD镀膜会取代传统的化学电镀吗？

现阶段不能！

除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外，在很多其他材料(如锌合金、铜、铁、塑料等)的工件上进行PVD镀膜前，都需要水镀，包括先对它们进行化学电镀Cr铬。

使用铬酐毒性大对人体伤害大，国际上也对六价铬进行限制，再有化学镀铬走位极差，低电位镀不上成为z大难题。

PVD镀膜主要应用在一些比较好的五金制品上，对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。

众所周知，真空镀膜厂在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。20世纪70年代，在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。后者是采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差，而且镀膜既不均匀也不易控制，PVD电镀加工厂，同时还会产生大量的废液，PVD电镀表面处理，造成严重的污染。因此，这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的限制。

相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，它的主要方法包括以下几种：

真空蒸镀

其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。

溅射镀膜

溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，PVD电镀加工价格，带正电的ya离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。

为了进一步提高整流设备效率，缩小整机体积和减轻重量，Z近生产出了高频开关电源设备。尽管开关电源设备的价格较高，但很快能收回投资，并能提高电镀质量。因此，加工大批量单一产品时，选用可控硅电源较好;加工负载经常有变化的多品种产品时，选用开关电源可取得较好的节能效果。

电镀电流效率的概念在生产实践中有很重要的含义，提高电流效率可以节约电能。各种真空电镀工艺的电流效率有较大区别。在满足产品技术要求的情况下，真空电镀厂应选择g效率电镀工艺，以节约生产成本。如采用高速镀铬工艺，其节能效果相当明显，同时节约风机电能，并减少废气排放等。

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